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紫外臭氧清洗機
- 生產(chǎn)廠(chǎng)家：美國Novascan公司
- 產(chǎn)品型號：PSD
● PSD系列紫外臭氧清洗機（UV-Ozone）通過(guò)操作簡(jiǎn)便的數字控制器進(jìn)行控制，讓您的工作變的很簡(jiǎn)單。燈管尺寸自 10x10cm至51x51cm不等。PSD系列紫外臭氧清洗機的特點(diǎn)就是強大...
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實(shí)驗室石墨電熱板
- 生產(chǎn)廠(chǎng)家：CIF
- 產(chǎn)品型號：PH
● CIF恒溫石墨電熱板采用分體式和無(wú)金屬附件設計理念，減少了酸蒸汽等對控制系統的腐蝕,保證了操作人員的安全和實(shí)驗結果的準確性。...
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全自動(dòng)濕法處理系統
- 生產(chǎn)廠(chǎng)家：德國Osiris
- 產(chǎn)品型號：CHEMIXX 1201
● CHEMIXX 1201是全自動(dòng)濕法處理系統，配置cassette to cassette 或foup,，支持12寸及以下尺寸晶圓或9 x 9 英寸方片的濕法處理，包括蝕刻、清潔或顯影工藝。該系統可配...
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大尺寸濕法處理系統
- 生產(chǎn)廠(chǎng)家：德國Osiris
- 產(chǎn)品型號：CHEMIXX 760
● CHEMIXX 760系統是一款大尺寸濕法系統，支持最大樣品達535X535mm(21寸方片)，更大的樣品尺寸可定制，一臺系統可實(shí)現清洗、蝕刻 、顯影 ，干燥整個(gè)工藝過(guò)程。...
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濕法刻蝕專(zhuān)用系統
- 生產(chǎn)廠(chǎng)家：德國Osiris
- 產(chǎn)品型號：CHEMIXX E 30Pm
● CHEMIXX E 30 濕法刻蝕系統專(zhuān)門(mén)用于掩膜版與晶圓的刻蝕與清洗，安全性能好，可使用 H2SO4, H2O2,NH4OH,HF,BOE等液體。...
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CMP后雙面清洗機
- 生產(chǎn)廠(chǎng)家：德國Osiris
- 產(chǎn)品型號：CHEMIXX CMP 30pm
● CHEMIXX CMP 30pm是一款專(zhuān)門(mén)為晶圓雙面清洗設計的系統，獨立系統，占地面積小，非常適合有限的空間。具有4路化學(xué)液清洗，兆聲清洗，雙面PVA刷洗，去離子水沖洗等清洗模塊，對晶圓有頂級的清洗能...
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