大尺寸濕法處理系統
-
CHEMIXX 760系統是一款大尺寸濕法系統,支持最大樣品達535X535mm(21寸方片),更大的樣品尺寸可定制,一臺系統可實(shí)現清洗、蝕刻 、顯影 ,干燥整個(gè)工藝過(guò)程。
更新時(shí)間:2022-11-25 17:35:42
n產(chǎn)品簡(jiǎn)介
CHEMIXX 760系統是一款大尺寸濕法系統,支持最大樣品達535X535mm(21寸方片),更大的樣品尺寸可定制,一臺系統可實(shí)現清洗、蝕刻 、顯影 ,干燥整個(gè)工藝過(guò)程。
n產(chǎn)品特色
÷ 基板尺寸高達 535 x 535 mm/21 x 21 inch
÷ 手動(dòng)裝載半自動(dòng)系統
÷ 兩個(gè)用于化學(xué)液輸送和機械清洗的電動(dòng)輸送臂
÷ 提供多種噴嘴,spray,puddle,噴霧,5孔碰頭等
÷ 低接觸或定制夾具
÷ 化學(xué)液具有加熱功能,最高 60°C (85°C)
÷ 集成三種不同化學(xué)液供液系統,外部液體罐可選
÷ 手動(dòng)灌裝或通過(guò)批量灌裝系統
÷ 工藝室外的手動(dòng)去離子水槍
÷ 去離子水室沖洗
÷ 系統前端的緊急停止按鈕
÷ 傳感器控制的 3 路排水系統可通過(guò)配方進(jìn)行編程。
÷ 帶有三個(gè)光區的信號燈,用于系統狀態(tài)的可視化
÷ 支持化學(xué)液清洗,兆聲清洗,PVA刷洗,吹干等工藝
÷ 滿(mǎn)足潔凈室等級 10 (ISO 4) 的一般設計
n技術(shù)數據
÷ 襯底尺寸: 最大可達 535 x 535 mm / 21 x 21 inch
÷ 電機轉速: 最大 3.000 rpm, 步長(cháng) 1 rpm
÷ 電機加速: 最大 2.000 rpm/s,步長(cháng) 1 rpm/s
÷ 步進(jìn)時(shí)間: 1 至 999.9 秒,步長(cháng)為 0.1 秒
÷ 工藝腔室材料: PP (可選 PVDF)
- 上一篇:濕法刻蝕專(zhuān)用系統
- 下一篇:全自動(dòng)濕法處理系統