? ? 第十一屆慕尼黑上海分析生化展于2023年7月13日在國家會(huì )展中心(上海)圓滿(mǎn)落下帷幕。 作為實(shí)驗室行業(yè)燈塔展會(huì ),本屆analytica China為行業(yè)奉上了一場(chǎng)技術(shù)與思考交流的盛會(huì ),洞悉新形勢,把握新機遇,共話(huà)新發(fā)展。

? ? 今年展會(huì )匯集1,273家參展企業(yè)和合作單位(2020年:1,121家)及56,864位專(zhuān)業(yè)觀(guān)眾共襄盛舉(2020年:23,652位)。八大展區近80,000平米總展示面積(2020年:60,000平米)上呈現了900+年度新品和新技術(shù)、創(chuàng )新技術(shù)及前沿解決方案。

? ? 本次展會(huì )，CIF新品等離子去膠機、RIE反應離子刻蝕機橫空出世，吸引了眾多專(zhuān)家、行業(yè)人士的駐足，咨詢(xún)絡(luò )繹不絕。CIF推出等離子去膠機外觀(guān)大氣美觀(guān)，同時(shí)實(shí)用性強，引發(fā)了專(zhuān)家老師們的討論。采用電感耦合各向同性（各個(gè)方向）等離子激發(fā)方式，適用于所有的基材及復雜的幾何構形都可以進(jìn)行等離子體去膠。特別適合于大學(xué)，科研院所和微電子、半導體企業(yè)實(shí)驗室，對電路板、外延片、芯片、環(huán)氧基樹(shù)脂、MEMS制造過(guò)程中犧牲層，干刻或濕刻處理前或后，對基材進(jìn)行聚合物剝離、金屬剝離、掩膜材料等光刻膠去除，以及晶圓表面預處理等。

? ? 同時(shí)還有一款產(chǎn)品也受到了專(zhuān)家老師們的喜愛(ài)，RIE反應離子刻蝕機，采用RIE反應離子誘導激發(fā)方式，實(shí)現對材料表面各向異性的微結構刻蝕。特別適合于大學(xué)，科研院所、微電子、半導體企業(yè)實(shí)驗室進(jìn)行介質(zhì)刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕等方面研究。使用成本低，性?xún)r(jià)比高，易維護，處理快速高效。適用于所有的基材及復雜的幾何構形進(jìn)行RIE反應離子刻蝕。

國產(chǎn)儀器凝聚“中國力量”,助力國潮崛起

? ?CIF始終堅持以客戶(hù)為中心，以市場(chǎng)為導向，本著(zhù)技術(shù)引領(lǐng)、服務(wù)驅動(dòng)的發(fā)展理念，積極響應國家科學(xué)儀器“國產(chǎn)替代”相關(guān)政策，按照“產(chǎn)、學(xué)、研、用”及“專(zhuān)、精、特、新”的理念和要求，不斷擴大研發(fā)、制造投入，向全產(chǎn)業(yè)鏈智能制造發(fā)展。

? ?CIF希望通過(guò)自我的不斷強大，為我國在前沿科學(xué)技術(shù)及高端儀器設備研發(fā)等方面作出一份貢獻。