標準濕法處理系統
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CHEMIXX 30pm濕法臺是一款半自動(dòng)單面濕法系統,主要用于晶圓或者方片的清洗,刻蝕,顯影等應用,其中清洗部分具有化學(xué)清洗,兆聲清洗,PVA刷洗,高壓DI水沖洗,背部清洗等多種功能。
更新時(shí)間:2022-11-25 17:23:57
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
CHEMIXX 30pm濕法臺是一款半自動(dòng)單面濕法系統,主要用于晶圓或者方片的清洗,刻蝕,顯影等應用,其中清洗部分具有化學(xué)清洗,兆聲清洗,PVA刷洗,高壓DI水沖洗,背部清洗等多種功能。
n產(chǎn)品特色
÷ 圓形晶圓最大可達 ? 300mm
÷ 方形襯底最大可達 9 x 9 inch
÷ 最多兩個(gè)電動(dòng)輸送臂,每個(gè)最多 6 個(gè)管路
÷ 液體加熱模塊高達 60°C
÷ 用于去離子水的背面沖洗
÷ 集成三種不同化學(xué)品液供應系統
÷ 工藝室外的手動(dòng)去離子水槍
÷ 工藝室自動(dòng)去離子水沖洗可選
÷ 帶有流孔的工藝室檔板
n技術(shù)數據
÷ 襯底尺寸: 最大可達 ? 300mm (?12 inch) 或 230 x 230 mm (9 x 9 inch)
÷ 電機轉速: 最大 3.000 rpm, 步進(jìn)1 rpm
÷ 步進(jìn)時(shí)間: 1 至 999.9 秒,步長(cháng) 0.1 s
÷ 系統架構: 由粉末涂層不銹鋼制成
÷ 處理室材料: PP (可選 PVDF)